Sektion Kristallographie
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Apparative Ausstattung

Kristallzüchtung

  • Czochralski-Kristallzüchtungsapparaturen (Hochvakuum)
  • Hochfrequenzgenerator (6 kW Klemmleistung)
  • Hochvakuumpumpstand (Öldiffusionspumpe) mit Gaseinlassmöglichkeit für H2, Ar (5.0) und N2 (5.0) für Materialvorbereitung
  • diverse Hochvakuumpumpstände
  • 2 Hochdruckautoklaven zur Einkristallzüchtung unter hydrothermalen
  • Bedingungen mit Zweizonen-Heizung und Temperatur-Programmregelung
  • mehrere Einzonen- und Zweizonenöfen für Kristallzüchtung in
  • Kieselglasgefäßen
  • Temperöfen (bis 1600°C) mit Temperatur-Programmreglern
  • diverse Einzonen- und Mehrzonenöfen mit Temperatur-Programmreglern (Synthesen und Kristallzüchtung)
  • vertikale THM-Züchtungapparatur (travelling heater method), ausgestattet für beschleunigte Tiegelrotationstechnik (ACRT)
  • Wärmeschränke mit Temperatur-Programmreglern für die Züchtung aus wässrigen Lösungen (Abkühlmethode)
  • Mehrkammer-Eintauchthermostat für die Züchtung aus wässrigen Lösungen (Verdampfungsmethode)

Kristallbearbeitung

  • Kristallsägen (Diamantdrahtsäge, Funkenerosionssäge Drahtläppsäge)
  • Schleif- und Polierapparaturen zur mechanischen Oberflächenpräparation
  • Niederdruck-Autoklaven zur Synthese unter hydrothermalen Bedingungen

Materialcharakterisierung

  • inverses metallographisches Auflichtmikroskop, incl. Vickers-Härtebestimmung etc.
  • Mikrowaage mit Präzisionsdichtemeßplatz
  • Differenzthermoanalyse (DTA) bis 1600°C (Netzsch)
  • dynamische Differenz-(Wärmestrom-)Kalorimetrie (DSC) bis 600°C (Mettler)
  • thermomechanische Analyse (TMA), i.w. Dilatometer, bis 1000°C (Mettler)
  • Messplätze für Röntgentopographie mit der Berg-Barrett-Methode und der Lang-Methode (im Aufbau)
  • diverse Röntgendiffraktometer für alle üblichen Methoden der Einkristall- und Pulverdiffraktometrie