ARBEITSGEBIETE
Strukturelle Charakterisierung von Oxidoberflächen z.B. TiO2(100), Cr2O3(0001),Fe3O4(100), Fe2O3(102)]
Oxidschichten auf Halbleiteroberflächen
Metallschichten auf Halbleiteroberflächen
Bestimmung der Adsorptionsgeometrie organischer Moleküle auf Metalloberflächen z.B. 2-Thio-Uracil/Ag(111)
Methodische Entwicklung für LEED und Oberflächenröntgenbeugung
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Ludwig-Maximilians-Universität München
Lehrstuhl für Kristallographie
Theresienstrasse 41
80333 München
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